金屬在蝕刻機(jī)中的腐蝕原理

金屬在蝕刻機(jī)中的腐蝕過程，首先是在金屬零件表面發(fā)生晶粒的溶解作用，其次在晶界上也發(fā)生溶解作用，一般來講，晶界是以不同于晶粒的溶解速度發(fā)生溶解作用的。

在大多數(shù)金屬和合金的多晶體結(jié)構(gòu)中，各個晶體幾乎都能采取原子晶格的任何取向。而晶粒的不同取向、晶粒密度的大小及雜質(zhì)都會和周圍的母體金屬形成微觀或超微觀原電池。所以，對于金屬在蝕刻液中來講，一方面這些原電池的存在，使金屬表面存在著電位差，電位正的地方得到暫時的保護(hù)，電位負(fù)的地方在腐蝕機(jī)中被優(yōu)先蝕刻。另一方面在零件表面具有變化著的原子間距，而且原子間距較寬的地方溶解速度迅速，一直到顯示出不平整的表面為止。然后，溶解作用將以幾乎是恒定的速度切削緊密堆積的原子層，表面的幾何形狀也隨著晶粒的溶解而繼續(xù)不斷地變化。晶界上的蝕刻也將進(jìn)一步影響零件表面。在晶界上晶格的畸變和富集的雜質(zhì)，常常導(dǎo)致更加快速的蝕刻作用，從而可能會使整個晶粒受到凹坑狀的蝕刻。晶粒尺寸越小，蝕刻后表面粗糙度越低，這也可以從實際生產(chǎn)中得到證實。在生產(chǎn)中往往都是材料越均勻致密其表面越平滑。

工件在蝕刻機(jī)腐蝕過程中，如何得到表面平滑的效果呢？通過華洲研究發(fā)現(xiàn)，如果是要進(jìn)行紋理蝕刻，就得使這種微觀局部蝕刻現(xiàn)象加強(qiáng)。比如控制合適的酸度或堿度，并添加一些旨在改變蝕刻行為的第二物質(zhì)，使被蝕刻的表面呈現(xiàn)出所需要的粗糙化表面效果。如果是在腐蝕機(jī)中進(jìn)行化學(xué)鏤空，同樣要創(chuàng)造條件，增強(qiáng)蝕刻液的蝕刻能力，使蝕刻更趨于均勻化，以得到表面平滑光潔的效果。